現(xiàn)代光電技術(shù)是建立在綜合科學(xué)研究基礎(chǔ)上。它是以激光器和先進(jìn)的探測(cè)器為基礎(chǔ)、電光學(xué)技術(shù)、電子技術(shù)、微電子技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)和計(jì)算機(jī)技術(shù)等密切結(jié)合而形成的一項(xiàng)高技術(shù)。它是以大規(guī)模集成電路、大型芯片組件、微型電子器件、元器件和板件電路等組成的多功能系統(tǒng)。這些電子產(chǎn)品滲透到光電材料與元件，光學(xué)儀器，光信息（資訊）產(chǎn)業(yè)，光通訊產(chǎn)業(yè)， 光電顯示，激光器和激光應(yīng)用，光電附設(shè)及電子元件，SMT 表面貼裝，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，攝影器材，制藥，化工等行業(yè) 及科學(xué)領(lǐng)域中，而且這些元器件在相對(duì)濕度60%RH以上的潮濕空氣里，更容易吸濕。各種配件、元件還沒有使用就失效，嚴(yán)重地影響了裝備的可靠性。

隨著裝備不斷更新，各種新型先進(jìn)的高分子材料、橡膠和塑料制品配件及各種精密光學(xué)鏡面配件不斷得到應(yīng)用，這些器件、材料所要求貯存濕度范圍各不相同。如：

計(jì)算機(jī)用的各種磁盤、磁帶、相片、錄音帶和皮革制品要求濕度范圍在40%RH～55%RH；

精密的儀器、集成板件、半導(dǎo)體元器件、印刷電路板要求濕度范圍在30%RH～45%RH；

光學(xué)精密測(cè)量鏡頭：晶體、紅外和夜視鏡片所要求的濕度范圍在20%RH～35%RH；

精密電子組件BGA、LCD要求的濕度在15%RH以下。

由于上述配件沒有合適的貯存環(huán)境，經(jīng)調(diào)研：生霉、生霧、氧化腐蝕、金屬零件銹蝕、高分子材料變形、老化斷裂、電子器件失效等等嚴(yán)重影響了器件壽命。這些器件產(chǎn)品是新技術(shù)裝備的核心部分、價(jià)格昂貴，而因貯存、管理失效，不僅產(chǎn)生經(jīng)濟(jì)損失，如果應(yīng)用在國(guó)防軍事方面，甚至給部隊(duì)的戰(zhàn)斗力、生存力帶來(lái)不可挽回的軍事?lián)p失。

因此提高電子元器件及各種配件的可靠性、保證裝備的可維性和完好率，根據(jù)濕度范圍進(jìn)行分
類管理，建立一個(gè)恒溫恒濕存儲(chǔ)平臺(tái)來(lái)滿足各種精密配件和電子器件貯存的濕度環(huán)境要求是當(dāng)務(wù)之急。